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SIMATIC ET 200MP 视频

SIMATIC ET 200MP 是一种防护等级为 IP20 的模块化、可扩展通用 I/O 系统，具有与 SIMATIC S7-1500 相同的系统优点。SIMATIC ET 200MP 具有极短的总线循环时间和极快的响应速度，即使数量框架很大时也如此。

SIMATIC ET 200MP 包括下列组件：

• 用于将 S7-1500 I/O 模块连接至 PROFINET 的接口模块；一个接口模块最多可以连接 30 个模块

• 用于将 S7-1500 I/O 模块连接至 PROFIBUS 的接口模块；一个接口模块最多可以连接 12 个模块

SIMATIC ET 200MP 分布式 I/O 系统十分容易安装、接线和调试。

凭借其扩展的环境条件，SIMATIC ET 200MP 几乎可以在任何地方使用。许多模块可以在 -30°C 至 + 60°C 的温度范围内运行，安装海拔高达 5000 m。除此以外，还提供了各种各样的 SIPLUS 模块。

亮点：

• 模块化 I/O 系统，防护等级 IP20，适PROFINET 或 PROFIBUS

• 紧凑的尺寸及高通道密度

• 由于以下设计特点而具有较高用户友好性：

• 通道密度高，35 mm 宽模块，多达 64 个数字通道

• 标准的 40 针前连接器简化了订货、物流和库存

• 各模块类型采用标准的针脚分配，简化了接线，有助于避免错误

• 集成电压桥接件简化了接线，便于以后的电压组灵活改动

• 电缆储存空间可根据要求而增加，即使芯线截面积较大和/或绝缘层较厚的绝缘导线，也可保持统一外观

• 前连接器提供了预接线位置，可以在调试时或在运行期间进行改动时方便地进行接线

• S7-1500 安装导轨上集成有 DIN 导轨，可以卡装很多标准部件，如附加端子、小型断路器或小型继电器

• 通过 1:1 赋值通道状态和诊断 LED、端子和标记，可以快速找到并消除错误。印制在前门内侧的接线图提供了接线帮助。

• 模拟量输入模块和工艺功能模块采取集成屏蔽设计，可实现可靠运行，特别是在高速应用中。无需任何工具，即可进行安装

• 超薄型 25 mm 模块和高密度模块，设计简单，非常节省空间；
  可以将包含电源 (PS)、接口模块 (IM) 和 30 个 I/O 模块的最大站组态安装在 830 mm 宽的 S7-1500 安装导轨上

• 内容丰富的产品线包含数字量和模拟量输入或输出模块、工艺模块以及用于 IO-Link 及点到点通信的通信模块，以及 F 模块（最高等级 SIL3）。

• 通过所选模块中的集成工艺功能（如计数、脉宽调制 (PWM) 或集成的开关次数计数器），可实现经济有效和便利的解决方案。

• 所选数字量输出模块可通过外部安全继电器，根据 SILCL 2 来执行安全负载组关断。

• 丰富的系统功能

• 与 S7-1500 和 TIA Portal 结合使用时，具有集成的系统诊断功能

• 通过继电器模块的集成开关次数计数器，可进行预防性维护

• 一致使用识别和维护数据 IM0 至 IM3，以便通过电子方式清晰地快速识别具体模块（订货号、序列号等）

• 对接口模块和所有 I/O 模块进行统一的固件更新，以便以后进行功能扩展(投资保护)

• 总线循环时间 ≥ 250 µs，并且可连接到等时同步任务，从而可以实现具有性能要求的 PROFINET 应用

• 一个站内最多可有 30 个 I/O 模块 (PROFINET) 或 12 个 I/O 模块 (PROFIBUS)，节省了接口模块和安装时间

• 使用 PROFINET 时无需微型存储卡 (MMC)；通过 LLDP 自动分配地址，或通过 TIA Portal 或 PST 工具手动分配地址

• 共享设备位于最多两个 (IM 155-5 PN BA 和 IM 155-5 PN ST) 或四个 (IM 155-5 PN HF) IO 控制器上

• 模块共享输入/模块共享输出是所有 S7-1500 I/O 模块的系统功能

• 设备利用率高：

• 通过在 PROFINET 上采用介质冗余协议（MRP、MRPD），以及使用 S2 冗余在 S7-1500 R/H 上运行 IM 155-5 PN HF，显著提高了通信可用性；
  另外，IM 155-5 PN HF 高性能型接口模块也可在 S7-400H 上运行。可使用 STEP 7 V5.5 SP3 和 GSDML 文件进行组态。IM 155-5 PN HF 还支持在 S7-400H CPU 上运行（系统冗余）。

• 每个站最多可使用 12 个 I/O 模块的有源背板总线，从而提高了工厂的可用性；允许在无 CPU STOP 状态下无反应地插拔正在运行的 I/O 模块；允许预留保持（空槽），以便以后进行工厂扩建。